12.1 改变一次电流

建议使用不同的一次束设置（L1、L2 和 L3 透镜），以覆盖不同的一次电流范围。

L1	固定为 Duo Source HV 的约 55%
L2	用于增大/减小一次束强度（标准束）
L3	如需高束流密度，取 Duo Source HV 的 0 至 40%。对于高密度小束流，取 Duo Source HV 的 65% 以上。（成像束）

O₂⁺ 一次离子，Source HV = +15kV：

12.1.1 标准束：

在给定范围内，一次束强度可通过以下方式改变：

- 光阑选择：较小的 D0 光阑会同时减小电流和束斑尺寸。较小的 D4 光阑主要减小电流，但对束斑尺寸影响不大。因此，建议主要使用 D4 和 L2 来改变一次电流。

- 使用透镜 L3：

○ 低数值（常用条件）：L3 数值保持为 0，对于极高密度束流可增大至 30%。

○ 高数值（仅在需要极小束斑直径时使用）：一次束强度（以及束斑尺寸）随 L3 增大而增大。

注意：为保持一次束良好聚焦，不应在源高压的 30% 至 60% 之间使用 L3。

一般而言，改变一次电流时遵循以下规则：

- 要降低一次束强度，请按顺序操作直至获得所需的一次电流：先增大 L2（若 L3 未设为 0，则减小 L3 数值），然后减小 D4，最后减小 D0。

- 要增大一次束强度，请按顺序操作直至获得所需的一次电流：先增大 D4（若 D4 小于 750μm），然后增大 D0（若 D0 小于 750μm），最后将 L2 减小至源电压的 50% 并增大 L3（保持 L3 < 源高压的 30%）。

请注意，改变光阑选择是以离散步进的方式改变一次电流，而 L2 透镜则提供连续变化。因此，若需要精确的一次电流值，可能需要将光阑选择与 L2 数值结合使用。

对于极小束流设置（束斑直径 < 数 μ m），必须选择以下条件：高源高压（通常 ≥ 10kV）、小 D0（通常 400 μ m 及以下）和 D4（通常 100 μ m），并配合高 L2 数值（通常高于源高压的 70%）。通过增大 L2 数值可减小一次电流（以及束斑直径）。

O₂⁺ 一次离子，Source HV = +15kV：